OPTIMASK (HEF PHOTONICS)
OPTIMASK offre toute une gamme de prestations dans les domaines suivants :
Aéronautique, Défense, Electronique, Médical, Nucléaire, Optique, Optoélectronique, Télécom et Spatial.
L’activité d’OPTIMASK concerne la fabrication des masques, les gravures, les dépôts métalliques et les traitements optiques.
Toutes nos prestations sont réalisées dans un environnement de salles blanches (400 m²)
Masques de microlithographie :
Substrats en Soda lime ou Quartz
Formats standards des plaques : du 2,5” au 8” x 10”
Métallisation chrome anti-réflectif ou oxyde de fer
Résolution : 1 µm (standard) à 0.25 µm (haute résolution)
Ces masques sont définis à partir de plans ou données informatiques.
Dépôts métalliques :
Nous déposons tous types de matériaux :
Or, argent, aluminium, chrome, nickel/chrome, cuivre, dépôts anti-réflectifs
Ces dépôts peuvent être réalisés avec :
– Couches de protection
– Traitement hydrophobe
Traitements optiques :
Nous réalisons tous types de traitement dans la bande 200 nm à 3000 nm.
Antireflets : Simple couche, double couches et multicouches
R maximum, Anti-calorique, Miroir froid, Séparatrice et Filtres passe haut ou passe bas
Les métallisations et traitements optiques sont réalisés par évaporation ou canon à électrons sur tous types de substrats (lentilles, prismes, hublots, sphères, cristaux…)
Gravure de précision :
Nous réalisons des gravures métalliques sur une gamme complète de substrats de l’ultraviolet à l’infrarouge :
Silice, Saphir, Borosilicate, Germanium, Silicium, ZnSe, ZnS, CaF2…
Les pièces sont gravées par procédés chimiques, soit des matériaux déposés ou en profondeur dans le substrat et remplies de peinture durcie par procédé thermique.
Nous assurons l’assemblage et le collage des composants optiques et mécaniques.
QUALITE :
Toutes nos activités sont sous contrôle ISO 9001 version 2000.
OPTIMASK has worked with a large variety of industries including:
Aeronautic, Defence, Electronic, Medical, Nuclear, Optical, Optoelectronic, Telecom and Spatial.
OPTIMASK’s activity concerns mask fabrication, etching, metallic coating and optical treatments.
All manufacturing is performed in a clean room environment (400 m²)
Microlithography Masks:
Soda lime or Quartz blanks
Standards size blanks: 2, 5” to 8” x 10”
Anti-reflective Chrome or Iron oxide
Resolution: 1 µm (standard) to 0.25 µm (high resolution)
Masks are realised from plans or computer generated files
(DXF, GDSII, CIF, ASCI, GERBER).
Metallic Coatings:
All kinds of materials:
Gold, silver, aluminium, chrome, nickel/chrome, copper, anti-reflective coatings
Can be realised with :
– Protection layer
– Hydrophobic treatment
Optical Treatments:
All kinds of treatments ranging from 200 nm to 3000 nm.
Antireflective: Simple layer, double layer and multilayer coating.
R max., Anti-calorific, Cold Mirror, Separative, high pass and low pass Filters.
Metallization and optical treatments are realised by evaporation or electron beam on all types of substrates (lenses, prisms, sights, spheres, crystals…)
Micro-Precision Etching :
Ultraviolet to infrared capabilities on a wide variety of substrates including:
Silica, Sapphire, Borosilicate glass, Germanium, Silicium, ZnSe, ZnS, CaF2…
Chemical etching, either directly on surface or deep in the material, with paint filling, hardened by oven baking.
We can ensure assembly and cementing of all mechanical and optical components.
QUALITY:
All activities are under ISO 9001 version 2000 control process.
